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1nm 文章

芯片制程突破1nm后,这个发展方向很有前景

  • 众所周知,芯片的工艺是越来越先进,台积电的代工能力已经到5nm了,而且直言不讳的表示3nm、2nm已经在路上了。随着集成电路的发展,计算机一直受到摩尔定律的支配,目前,芯片都是由硅为基础,在上面刻蚀电路,但是,理论研究表明,当芯片制程达到1nm的时候,量子隧穿效应,就是电子不受控制,所以这是人们很担心的问题,1nm后怎么办?芯片上有无数个晶体管,他们是芯片的核心,也就说,目前的技术是要把晶体管做的越来越小,这样,芯片上能容纳的晶体管就很多,芯片的性能就随之增加。而目前最小的是1 nm栅极长度的二硫
  • 关键字: 1nm  量子隧穿效应  

1nm工艺CPU还有多远?台积电即将挑战极限:进军1nm工艺

  • 我们现在使用的半导体大部分是硅基电路,问世已经60年了,多年来都是按照摩尔定律2年一次微缩的规律发展,但它终究是有极限的。台积电在突破5nm、3nm及未来的2nm之后,下一步就要进军1nm工艺了。根据台积电的规划,今年会量产5nm工艺,2022年则会量产3nm工艺,2nm工艺已经在研发中了,预计会在2024年问世。2nm之后呢?台积电在日前的股东大会上也表态,正在研究2nm以下的工艺,正在一步步逼近1nm工艺。1nm工艺不仅仅是这个数字看上重要,它还有更深的含义——1nm级别的工艺有可能是硅基半导体的终结
  • 关键字: 1nm  台积电  

美国科研人员实现1nm 制程工艺

  •   Intel、TSMC及三星三大半导体工厂今年将量产10nm工艺,他们中进度快的甚至准备在明年上马7nm工艺,2020年前后则要推出5nm工艺。但是随着制程工艺的升级,半导体工艺也越来越逼近极限了,制造难度越来越大,5nm之后的工艺到现在为止都没有明确的结论,晶体管材料、工艺都需要更新。在这一点上,美国又走在了前列,美国布鲁克海文国家实验室的科研人员日前宣布实现了1nm工艺制造。   来自EETimes的报道称,美国能源部(DOE)下属的布鲁克海文国家实验室的科研人员日前宣布创造了新的世界记录,他们成
  • 关键字: 1nm  制程  

1nm晶体管现身!

  •   以物理学规则来看,电晶体的最小尺寸被认为是5奈米,但透过采用碳奈米管制作电晶体闸极,这个极限已经被突破…   碳奈米管从过去几十年就已经用于制作实验性电晶体,但大多是当做电晶体通道(channel);美国劳伦斯柏克莱国家实验室(Lawrence Berkeley National Laboratory)的研究人员则是以奈米碳管制作闸极(gate),并因此实现了号称全世界最小的电晶体。        采用二硫化钼(molybdenum disulfide)通道与单奈米
  • 关键字: 1nm  晶体管  

为什么说7nm是物理极限?如何看待晶体管制程从14nm缩减到了1nm?

  •   适用了20余年的摩尔定律近年逐渐有了失灵的迹象。从芯片的制造来看,7nm就是硅材料芯片的物理极限。不过据外媒报道,劳伦斯伯克利国家实验室的一个团队打破了物理极限,采用碳纳米管复合材料将现有最精尖的晶体管制程从14nm缩减到了1nm。那么,为何说7nm就是硅材料芯片的物理极限,碳纳米管复合材料又是怎么一回事呢?面对美国的技术突破,中国应该怎么做呢?   XX nm制造工艺是什么概念?   芯片的制造工艺常常用90nm、65nm、40nm、28nm、22nm、14nm来表示,比如Intel最新的六代酷
  • 关键字: 制程  1nm  

1nm晶体管能否改写摩尔定律的命运?

  • 随着芯片技术的发展,摩尔定律所预言的发展轨迹似乎已逼近终点。这意味着,固守传统思路的芯片制造商将举步维艰。
  • 关键字: 1nm  晶体管  

计算技术界的重大突破:1nm晶体管诞生

  • 晶体管的制程大小一直是计算技术进步的硬指标。晶体管越小,同样体积的芯片上就能集成更多,这样一来处理器的性能和功耗都能会获得巨大进步。
  • 关键字: 1nm  晶体管  
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1nm介绍

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